Nǔgbododó Etcher Plasma Tɔn

Nǔ e è nɔ ylɔ ɖɔ Inductivement Couplé Plasma Etch (ICPE) é wɛ nyí ɖɔ è nɔ bló nǔ e è nɔ ylɔ ɖɔ chimie é kpo nǔ e è nɔ ylɔ ɖɔ physique é kpo ɖó kpɔ́. Nǔgbododó tɔn taji ɔ wɛ nyí ɖɔ, ɖò vɔvɔ kpo hlɔnhlɔn kpɛví kpo glɔ́ ɔ, è nɔ ɖè hlɔnhlɔn e è nɔ na ICP RF é tɔ́n sín hlɔnhlɔn e nɔ na hlɔnhlɔn ICP RF é mɛ. Gaz etching mixte ɖé ɖò jlɛ̌ ɖé mɛ ɔ, è nɔ xò kplé xá glow discharge ɖé, bo nɔ bló plasma e ɖó hlɔnhlɔn ɖaxó- é ɖé. Ðò hlɔnhlɔn RF e ɖò èlɛktrɔdu e ɖò dò é mɛ é glɔ́ ɔ, plasma enɛ nɔ bɛ́ bɔnbu dó nǔ e jí è sɔ́ nǔ ɔ ɖó é jí, bo nɔ gbà nǔ e nɔ hɛn nǔ cí mɔ̌ é sín bǔ ɖò fí e è bló ɖiɖe ɔ ɖó é. Nǔ enɛ lɛ e nɔ hɛn nǔ gblé lɛ é nɔ wà nǔ xá jɔhɔn e nɔ hɛn nǔ gblé dó mɛ wu é bo nɔ bló nǔ e nɔ hɛn nǔ gblé lɛ é, bɔ enɛ gudo ɔ, ye nɔ klán ɖò nǔ e ɖò dò é mɛ bo nɔ huzu jɔhɔn, bo nɔ tɔ́n sín tɔ̀ e mɛ è nɔ xò nǔ dó é mɛ.